Зміни в виробництві чіпів можуть підвищити продуктивність нових машин ASML на 40 відсотків.
Провідні виробники чіпів Samsung Electronics і Taiwan Semiconductor Manufacturing Co. (TSMC) оголосили про плани впровадити новітні машини ASML протягом наступних кількох років. Вони також, як і Intel, погодилися на ключову технологічну зміну, яка може підвищити виробництво чіпів на нових машинах на 40 відсотків.
Це свідчить про ширше впровадження в напівпровідниковій індустрії технології фотолітографії High-NA EUV, вартість якої може сягати 400 мільйонів доларів за машину. Цю технологію надає виключно нідерландська компанія ASML. Вона дозволить розробникам чіпів створювати ще менші елементи для потенційно потужніших і ефективніших чіпів наступного покоління, що використовуються в дата-центрах зі штучним інтелектом та споживчій електроніці, як-от смартфони, планшети та ноутбуки.
Літографічні машини EUV (екстремального ультрафіолету) від ASML дають змогу виробникам чіпів використовувати потужне лазерне світло для пошарового нанесення візерунків на кремнієві пластини, поступово формуючи комп’ютерні схеми, які роблять кремнієві чіпи функціональними. Порівняно зі старою літографією в глибокому ультрафіолеті, технологія EUV використовує потужніше джерело світла з коротшою довжиною хвилі для створення ще менших елементів на кремнієвих пластинах.
Це вимагало розробки надзвичайно складної системи лазерів, яка постійно створює плазму з розплавленого олова при температурі близько 200 000° C. Дзеркала, що збирають світло від плазми, спрямовують його в літографічний пристрій розміром з автобус для проєктування складних схем на кремнієві пластини. Найновіші машини ASML High-NA EUV використовують більші дзеркала та покращену оптичну систему для точнішого збору та фокусування світла.
Південнокорейська Samsung планує використовувати машини ASML High-NA EUV для виробництва чіпів пам’яті до 2028 року. Тим часом тайванська TSMC має намір використовувати цю технологію для виробництва найсучасніших чіпів для своїх клієнтів, включно з такими компаніями, як AMD, Apple, Nvidia та Qualcomm, починаючи з 2030 року.
Intel вже почала використовувати машини High-NA EUV у виробництві чіпів. Американська компанія використовує цю технологію у великосерійному виробництві процесорів Panther Lake для мобільних комп’ютерних пристроїв з липня 2026 року.
Галузь розвивається, тоді як Китай намагається наздогнати
Samsung і TSMC також співпрацюють з Intel і ASML над зміною галузевого стандарту для фотошаблонів — трафаретів, що містять складні схеми, які наносяться на кремній — з 6-дюймових на 12-дюймові. Цей перехід, за словами головного технологічного директора ASML Марко Пітерса, може в кінцевому підсумку підвищити продуктивність машин High-NA EUV на 40 відсотків.
Південнокорейський виробник чіпів пам’яті SK Hynix також розглядає можливість приєднання до галузевого консорціуму, що наглядає за переходом на більші 12-дюймові фотошаблони. Як і Samsung, SK Hynix планує почати виробництво чіпів пам’яті з використанням технології High-NA EUV з 2028 року.
Покращене виробництво чіпів стало бізнес-імперативом, доки триває інфляція “бульбашки ШІ”. Поспіх технологічних компаній з будівництва нових дата-центрів зі штучним інтелектом також сприяв глобальному дефіциту чіпів пам’яті, що призвело до підвищення цін на смартфони, ноутбуки та ігрові пристрої.
Тим часом важливість машин ASML для передового виробництва чіпів також стала ключовим питанням у триваючому технологічному змаганні між Сполученими Штатами та Китаєм. ASML досі постачає китайським компаніям, таким як Semiconductor Manufacturing International Corporation (SMIC), машини літографії старого покоління з глибоким ультрафіолетом, але була позбавлена можливості експортувати більшість своїх машин до Китаю через обмеження нідерландського уряду та політичний тиск США.
Незважаючи на недоведені звинувачення уряду США в тому, що Китай нібито отримав одну з машин літографії EUV від ASML, китайські компанії стикаються зі складною боротьбою у розробці власної версії технології та ланцюжка постачань, необхідного для підтримки виробництва таких машин. Представник німецької компанії Zeiss Group, ексклюзивного постачальника дзеркал та оптичних систем, що використовуються в машинах ASML, нещодавно прогнозував, що Китаю знадобиться 15 років для розробки літографічних машин EUV.
Дізнатися більше на: arstechnica.com