Samsung відтерміновує впровадження EUV-сканерів ASML нового покоління до 1 нм чипів

Південнокорейська компанія Samsung планує впровадити літографію з високою числовою апертурою (High NA) в ультрафіолетовому діапазоні (EUV) на своїх виробничих потужностях для створення чипів за техпроцесом 1 нанометр. Про це повідомив віцепрезидент Samsung Electronics із технологій ЧангМін Парк, додавши, що компанія…








