Минулого тижня з’явилися чутки про наміри китайських виробників розпочати випуск обладнання для іммерсійної літографії з глибоким ультрафіолетовим випромінюванням (DUV), яке дозволяє створювати досить просунуті чипи. За оцінками експертів, воно все одно на кілька поколінь відстає від найкращих зразків нідерландської ASML.
Джерело зображення: ASML
У понеділок видання The Information повідомило, що певний китайський виробник за державної підтримки налагодив масовий випуск такого обладнання. На перших порах обсяги виробництва будуть обмежені: цього року вийде п’ять примірників літографічних систем, а наступного – приблизно двадцять. Вважається, що покупцями такого обладнання стануть провідні китайські виробники чипів, включно з SMIC, HuaHong Semiconductor і ChangXin Memory Technologies. Повідомлялося, що подібне імпортозаміщення зможе похитнути позиції нідерландської ASML на китайському ринку, хоча китайське обладнання класу DUV все одно поступається західним зразкам як за продуктивністю, так і за надійністю.
До вівторка агентство Reuters розкрило ім’я згаданого китайського виробника – Shanghai Aishengna Electronic Technology Group. Компанія була заснована у серпні 2023 року зі статутним капіталом близько 1 млн доларів США, її співзасновниками є дві структури, пов’язані з муніципальною владою Шанхаю. Штат цього виробника було посилено вихідцями з Shanghai Yuliangsheng, яка почала тестувати прототип DUV-сканера минулого року, а також більш відомою у цій сфері Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE).
Протягом трьох перших торгових сесій минулого тижня акції нідерландської ASML втратили в ціні понад 13 %, Infineon Technologies подешевшала на 15,5 %, і лише до четверга виник відскок після заяв аналітиків JP Morgan про надмірність реакції ринку на ці чутки. Китайські державні ЗМІ не стали підтверджувати факт початку випуску DUV-обладнання в країні, але натякнули, що «західна блокада» втратила свою ефективність. Вони висловили впевненість, що одного прекрасного дня відповідні технології, які західні виробники приховували від китайської промисловості, стануть основною її повсякденною роботою.
У вересні минулого року стало відомо про тестування китайською компанією SMIC обладнання Yuliangsheng DUV-системи для іммерсійної літографії, яка має дозволити налагодити випуск 28-нм чипів з 2027 року. У жовтні з’явилися публікації про спроби китайських клієнтів ASML звернутися за допомогою до цієї компанії у збірці однієї з літографічних систем цієї марки, яку вони вивчали по частинах з метою можливого копіювання. Китайські джерела стверджують, що Yuliangsheng, SMEE та Shanghai Aishengna Electronic Technology фактично використовують плоди праці однієї й тієї ж групи інженерів. Минулого року SMEE перевела розробку DUV-систем під крило Yuliangsheng, щоб зосередитися на створенні більш досконалого обладнання класу EUV.
Вважається, що китайська система SSX800, над створенням якої працюють місцеві фахівці, приблизно співставна за характеристиками з ASML Twinscan NXT:1950i, яку нідерландський виробник вивів на ринок ще у 2008 році з метою випуску 28-нм чипів. Споріднена SSA800 на 70 % забезпечувалася компонентами китайського виробництва. Важливі елементи цієї системи, як-от джерела лазерного випромінювання, дзеркала, оптика та керуюче програмне забезпечення, все одно доводиться імпортувати. За оцінками західних експертів, китайське обладнання для випуску 28-нм чипів все одно на чотири покоління відстає від закордонного, а тому має значно нижчу продуктивність. Система SSA800 здатна обробляти 150 кремнієвих пластин на годину, але рівень виходу придатної продукції при цьому далекий від цільових 90–95 %. У будь-якому випадку, для масового впровадження у виробництві чипів ці китайські системи поки що «сируваті» та малочисельні.
Джерело новини: 3dnews.ru