ASML підтвердила, що Intel використовує свою технологію High NA EUV для виробництва своїх чипів Panther Lake на найсучаснішому техпроцесі 18A.
High NA EUV від ASML виходить на високообсяжне виробництво логічних мікросхем з чипами Intel “18A” Panther Lake
Сьогодні ASML оголосила, що її перше обладнання High NA EUV “EXE” було встановлено на Intel Foundry і вже використовується для виготовлення перших продуктів Panther Lake 18A. Перший з цих літографічних верстатів High NA EUV був встановлений на дослідницькому об’єкті Intel у Хіллсборо, штат Орегон, ще у 2024 році, що зробило Intel першою компанією, яка встановила та пройшла приймальні випробування другого покоління TWINSCAN EXE:5200B.
Процесори, виготовлені за допомогою High NA EUV, вже перебувають у масовому виробництві, при цьому певні шари техпроцесу 18A тепер подвійно кваліфіковані на High NA EUV в Орегоні. Зазначається, що високообсямні потужності верстатів ASML EXE відповідають виходам платформи NXE.
Intel фактично зараз використовує High-NA у виробництві свого найсучаснішого продукту. Це означає, що деякі з продуктів, які ви купуєте сьогодні від Intel, були створені за допомогою верстата High-NA. Це, звичайно, дуже важлива віха. Це доказ зрілості інструменту. Ми багато говорили про це в минулому кварталі. Ми бачимо, як це відбувається з усіма клієнтами, і тому очікуємо розпочати обговорення з усіма нашими клієнтами щодо того, як саме і коли саме інструмент буде впроваджено у високообсяжне виробництво.
Крістоф Фуке, президент і генеральний директор ASML
За даними Intel, High NA EUV застосовується до підмножини чипів Intel Core Ultra Series 3 під кодовою назвою Panther Lake. ASML називає це першим “високообсяжним логічним продуктом” на High NA EUV, що має створити основу для подальшого впровадження цієї технології.
Ця віха відображає тісну технічну співпрацю між Intel та ASML і демонструє, як High NA EUV може бути інтегрована в передове виробництво напівпровідників у великих масштабах. Кваліфікуючи опцію процесу High NA EUV на вибраних шарах продукту Intel 18A, наш існуючий парк обладнання забезпечує клієнтам збільшення випуску продукції, тоді як ми розробляємо майбутні опції для досягнення провідної продуктивності, щільності та виробничої гнучкості на майбутніх вузлах.
Нага Чандрасекаран, виконавчий віце-президент та генеральний директор Intel Foundry
Найважливішим висновком є те, що Intel є першою компанією, яка досягла високообсяжного виробництва з використанням High NA EUV, тоді як TSMC розглядає можливість використання High-NA EUV приблизно у 2029 році. Технологія є життєво важливою для забезпечення точного формування візерунків для передового виробництва мікросхем. Менші та щільніші візерунки додатково прискорять розвиток ШІ та інших новітніх технологій, зазначив Крістоф Фуке (президент і генеральний директор ASML).
Крім того, використання High NA EUV також прокладає шлях для застосування технології у майбутніх вузлах відповідно до вимог замовників.
Про автора: Хасан Муджтаба, інженер-програміст за освітою та ентузіаст ПК за покликанням, є старшим редактором розділу апаратного забезпечення Wccftech. Маючи багаторічний досвід роботи в галузі, він спеціалізується на глибокому технічному аналізі процесорних і графічних архітектур наступного покоління, материнських плат та систем охолодження. Його робота включає не лише висвітлення новин про майбутні технології, але й extensive hands-on огляди та тестування.
Слідкуйте за Wccftech на Google, щоб отримувати більше новин у стрічці.
Подальше читання
AMD готується до запуску Ryzen AI MAX PRO 400 з підтримкою ROCm 7.14
Сарфраз Хан
Огляд процесора AMD Ryzen 7 7700X3D 4.5 GHz “3D V-Cache”: Бюджетний чемпіон X3D для AM5
Хасан Муджтаба
«OnePlus не обов’язково зазнав невдачі з продуктом», — каже аналітик, але вважає, що «він боровся за збереження унікальної ідентичності», оскільки компанія підтверджує свій вихід з різних ринків
Омар Сохаїл
GTA 6 має всі шанси перевищити попередні продажі будь-якої гри, оскільки Newzoo прогнозує 51 мільйон копій за перший тиждень
Алессіо Палумбо
Чи варто купувати? (Порада ІТ-Блогу): Впровадження Intel технології High NA EUV для виробництва чипів Panther Lake на техпроцесі 18A є значним кроком вперед, що свідчить про зрілість нової літографічної техніки. Хоча це не впливає безпосередньо на кінцевого споживача при купівлі конкретного процесора, це обіцяє майбутні покоління більш потужних і щільних чипів, що є позитивним сигналом для розвитку галузі загалом. Наразі прямого впливу на ціну чи доступність окремих продуктів це не має.
Подробиці можна знайти на сайті: wccftech.com