Генеральний директор підрозділу напівпровідникового бізнесу німецького виробника лінз Zeiss, Френк Ромунд, вважає, що хоча Китай може відставати від сучасних західних технологій виробництва чіпів на 14 років, обмеження, накладені на країну, лише прискорять її інноваційний розвиток. Про це керівник розповів Bloomberg під час конференції SEMICON на Тайвані. Він додав, що прогрес Китаю в галузі глибокої ультрафіолетової (DUV) літографії слід оцінювати за кількома параметрами, перш ніж порівнювати його з некитайськими технологіями.
Керівник Zeiss: Прогрес Китаю в технології DUV-літографії не є несподіванкою
Через західні обмеження новини про китайські розробки в галузі літографії майже завжди викликають пильну увагу. Наприклад, наприкінці липня стало відомо, що Китай почав виробляти власні іммерсійні DUV-машини. Це передове DUV-обладнання, яке використовує шар тонкої води для маніпулювання світлом для друку мікросхем.
Однак, згідно з додатковими повідомленнями, ці машини навряд чи стануть загрозою для ASML, чиє обладнання домінує на ринку, оскільки джерела припускають, що китайським розробкам буде важко конкурувати з обладнанням нідерландської компанії.
Зі свого боку, генеральний директор підрозділу напівпровідників Zeiss, Френк Ромунд, схоже, погоджується з цим. В інтерв’ю Bloomberg він зазначив, що хоча йому не відомо про китайські DUV-машини більше, ніж повідомлялося в пресі, загальновідомо, що країна розробляє DUV-обладнання “десятиліттями”.
Він також наголосив на необхідності оцінювати машини за кількома параметрами:
“І тепер нам потрібно побачити, наскільки функціональними є ці інструменти. Ми вважаємо, що з точки зору продуктивності, ефективності, зручності використання та можливостей обслуговування ми все ще значно випереджаємо.”
Ромунд також поділився, що його компанія має приблизно 1500 постачальників, і вона почала готувати свій ланцюжок постачань для забезпечення відповідних потужностей ще кілька років тому. Коментуючи цикл ШІ, він зазначив, що він має тривати щонайменше до 2028 року.
Щодо обмежень проти Китаю, він окреслив “основне припущення” своєї компанії, що “ситуація продовжуватиметься в тому ключі, що ми не зможемо експортувати EUV-технології до Китаю”.
Керівник Zeiss також обговорив нещодавній звіт UBS, в якому банк зазначив, що Китай відстає від ASML щонайменше на десятиліття в розробці EUV-обладнання. Коментуючи складність виробництва EUV-машин, він зазначив, що 15-річне відставання є “ймовірно, обґрунтованим припущенням”, яке підлягає діапазону.
З огляду на повідомлення про те, що адміністрація Трампа може навіть запровадити додаткові санкції проти Китаю, щоб обмежити доступ країни до DUV-обладнання, він попередив, що це може прискорити китайські інновації:
“Очевидно, це не дуже добре для нашого бізнесу. І ми бачимо скептиків, так, ми не віримо в позитивний вплив цих експортних обмежень, оскільки вони прискорюють інновації в Китаї. Однак, ми сподіваємося, що прагматизм залишиться сильним, і ми зможемо продовжувати вести наш бізнес у Китаї.”
Джерело новини: wccftech.com